芯片开封机分用化学腐蚀和激光开封两种,区别是激光开封比较简单,而且开封铜线邦定的IC比较*。
开封, 即开盖/开封, 指去除IC封胶, 同时保持芯片功能的完整无损, 保持 die, bond pads, bond wires乃至lead-frame不受损伤, 为下一步芯片失效分析实验做准备.
* 对各种不同的塑料封装进行开封,不破坏IC电性能
* **激光开封和化学混酸技术使开封效果更好更稳定
温度范围:1, 发烟硫酸: 室温 - 250c. 2, 发烟硝酸: 室温 - 90C. 3, 混酸: 室温 - 100C (RKD ETCH)
4, 混酸(**): 10C -100C (RKD CU) 选项
抽酸流量: 1 - 6 ml/minute
蚀刻头组件: 固定式碳化硅
N2气体支持:2.0 lpm (安全盖子+泵),60-70 Psi
安全:1, 自动显示错误信息
2, EMO紧急停止按扭
3, 漏酸侦测在设备内部和瓶子BOX里
4, 采用光纤感应盖子的密合度(不是耗材)
5, 所有管路一体化设计,双层保护套,并且酸瓶盒配有盖子
废酸瓶:1个
固定样品方式:盖子盖下以后,自动从上到下,直接固定样品
密封圈:圆型(不是耗材)
操作方式:可在通风柜外手持式操作(更安全)
自动酸清洗选项: 0-20秒,(可选择硫酸,硝酸,混酸清洗或不清洗)
安全证明:1, CE
2, SEMI S3-93
3, SEMI S2000
4, RoHS
开封垫圈:共有7套标准的垫圈和根据客户定制的垫圈
蚀刻方式:脉冲式和互惠式
时刻时间:1-1800秒,以1秒为调节范围