RKDEngineering集成了双控制用于所有液体在瓶容器和机之间进行耦合。内部连接是在特氟龙密封的管路内运行的,它可以由瓶子盒的任何一端来供给。瓶子容器装置内包含了液体传感器,当酸从任何一个瓶子中泄露后都会给操作员发出警告。EliteEtch机即能够使用500美标瓶子,也可以使用日本标准的瓶子。
激光机激光开盖机 IC开盖时间1分钟左右。
激光刻蚀封装材料
应用范围:
可移除任何塑封器件的封装材料
PCB板的及截面切割
功率器件和IC托盘上多个的预开槽
机器尺寸():190 x 320 x 305
温度范围:1, 发烟硫酸: 室温 - 250c.
2, : 室温 - 90C.
3, 混酸: 室温 - 100C (RKD ETCH)
4, 混酸(**): 10C -100C (RKD CU) 选项
抽酸流量: 1 - 6 /minute
蚀刻头组件: 固定式碳化硅
N2气体支持:2.0 lpm (安全盖子+泵),60-70 Psi
安全:1, 自动显示错误信息
2, EMO紧急停止按扭
3, 漏酸侦测在设备内部和瓶子BOX里
4, 采用光纤感应盖子的密合度(不是耗材)
5, 所有管路一体化设计,双层保护套,并且酸瓶盒配有盖子
废酸瓶:1个
固定样品方式:盖子盖下以后,自动从上到下,直接固定样品
密封圈:圆型(不是耗材)
操作方式:可在通风柜外手持式操作(更安全)
自动酸清洗选项: 0-20秒,(可选择硫酸,,混酸清洗或不清洗)
安全:1, CE
2, SEMI S3-93
3, SEMI S2000
4, RoHS
开封垫圈:共有7套标准的垫圈和根据客户定制的垫圈
蚀刻方式:脉冲式和互惠式
时刻时间:1-0秒,以1秒为调节范围
混酸配比:9:1, 5:1, 4:1, 3:1, 2:1, 1:1
存储参数:100组
RKD化学开封机去封范围:普通封装COB、BGA陶瓷、金属等其它封装
使用酸的种类:酸,混酸。
NSC(NEWMODEL);Auto-Mixed-AcidType
01使用酸的种类3种:酸,,混酸
02工作温度范围可以到达250度(较广的范围);
03混酸的工作温度范围可以到达250度
04酸的混合机器可以自动混合9种不同比率的混酸
05酸混合的方法通过使用具有**技术的混合搅拌器,使得不同比率的混酸得到完全充分的搅拌和混合
06机器结构分离式结构设计,控制部分可以和部件彼此分开.
07设备的排气设计不需要,因为控制部分有很好的密封性,并且是和部件彼此分开.
08腐蚀时间的设定范围0-99min59sec
09使用的温度感测器(**);的铂金温度感测器
10温度控制使用P.I.D.法
11清洁用的气体N2
12工作压力3Kg/cm2
13消耗量2l/min
14在使用后自动关闭N2Yes
15控制部分安放的位置在通风柜的里面或外面
16腐蚀头的材料特富龙
17腐蚀头新设计的腐蚀头可以广泛使用于不同的腐蚀区域,不需要更换腐蚀头
18腐蚀区域的保护盖材料(**);双层设计的兰宝石玻璃
19腐蚀区域保护盖的设计(**);垂直行动
20热交换器内部管道式设计,使得有更好的密封及保护.有四根加热棒,加热更均匀
21控制器微处理器
22酸的选择一键式选择
23设备自我诊断系统有
24BGA固定器有,标准部件使用于所有BGA
25小样品适配器有专为小样品设计,使小样品DECAP更*。
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主要经营捷纬科技有限公司(G-WELL TECHNOLOGY CO., LTD)于2012年5月29日注册于中国香港,热阻测试仪,激光开封机,芯片开封机,化学开封机,芯片激光开封机,研究半导体、航空、汽车和电子领域,专业提供电子产品检测、失效分析和可靠性解决方案供应商,产品涵盖***的非破坏性,破坏性失效和可靠性分析的设备以及相关流程方案。。
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